NIKUNI 尼可尼 10JLD02Z
一、型号释义
10：吸入口径 Rc3/8"（10mm），吐出口径 Rc1/4"（8mm）
JLD：洁净（Clean）、中压、2 极高速、不锈钢涡流泵
02：电机0.2kW（0.25HP）
Z：三相、全闭外扇、IP55、F 级绝缘（标准屋内型）
二、基本规格（标准值）
结构：卧式一体紧凑型（电机直联，2 极高速）
最大扬程：48–50m（0.48–0.5MPa）
额定流量：6 L/min（0.36 m³/h）
最大流量：12 L/min（0.72 m³/h）
转速：2900rpm（50Hz）/ 3500rpm（60Hz）（2 极，高速）
介质温度：0～90℃（标准型，纯水版 - J：0～80℃）
汽蚀余量 NPSH：≥1.0m（标准洁净泵，非超低汽蚀）
自吸高度：约1.5m（清水、常压）
接液材质：
泵体 / 叶轮：SUS316L（锻造 + 镜面抛光 Ra≤0.4μm）
轴：SUS316L
机械密封：SiC×SiC×PTFE（食品级、无泄漏、耐弱酸弱碱）
电机：三相 200V/380V、IE3 高效、IP55、F 级绝缘
重量：约14kg
价格（参考）：约52.5 万日元（税込）
三、JLD 系列定位（与 UND/JHD 区别）
JLD：洁净中压（≤50m），主打纯水 / 超纯水、食品医药、半导体清洗；全不锈钢锻造、无卫生死角、低金属离子析出
UND：超低汽蚀（NPSH≤0.3m），真空 / 高温 / 易汽化工况（非洁净优先）
JHD：洁净高压（≤110m），JLD 的高压版，高扬程洁净需求
四、核心特点
洁净卫生级：SUS316L 锻造 + 镜面抛光，无卫生死角、无金属离子析出，符合食品 / 医药 / 半导体纯水要求
小流量高扬程：2900rpm，6L/min→50m，适配微小流量高压循环
低脉动、压力稳定：涡流原理，压力脉动 **≤±0.5%**，适合精密流体输送
结构简单、免维护：仅叶轮为旋转件，无易损件、无需定期更换，寿命长
耐气锁 / 水锤：强抗气锁、耐水锤，适合含微量气体工况
五、典型应用
纯水 / 超纯水：半导体、电子、实验室高压循环
食品医药：饮料、药液、无菌水输送（无交叉污染）
精密清洗：半导体晶圆、液晶面板、精密零件清洗
工业 OEM 配套：激光冷却、小型模温机、高压喷雾、水处理设备
六、型号对比（10JLD02Z vs 15JLD02Z vs 10UND02Z）
| 项目 | 10JLD02Z | 15JLD02Z | 10UND02Z |
|---|---|---|---|
| 口径 | 10mm（Rc3/8"） | 15mm（Rc1/2"） | 10mm（Rc3/8"） |
| 扬程 | 48–50m | 48–50m | 45–50m |
| 流量 | 6–12L/min | 15–30L/min | 6–12L/min |
| 核心优势 | 洁净卫生、低离子析出 | 洁净 + 中流量 | 超低汽蚀（NPSH≤0.3m） |
| 材质 | SUS316L 锻造 | SUS316L 锻造 | SUS304/316L 铸造 |
| 适用场景 | 纯水 / 食品 / 医药 | 中流量洁净工况 | 真空 / 高温 / 易汽化 |
188-2522-2238
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