技术文章
技术文章
您的位置: 主页 > 技术文章 > 技术文章> NIKUNI 尼可尼|真空除氧全系列产品介绍(DeO 全系 + 真空机组)

NIKUNI 尼可尼|真空除氧全系列产品介绍(DeO 全系 + 真空机组)

所属分类:技术文章 发布时间:2026/6/4 10:42:38

尼可尼真空除氧分 3 大类:DeO-Turbo 内置泵旋流除氧、DeO-Vac 外接真空式除氧、UNIVAS 瓦斯大学配套真空除氧机组,依靠负压析出水中溶解氧(O₂/N₂),是电子清洗、纯水、药液、电镀专用在线除氧设备
image.png|

一、DeO-Turbo(涡轮自吸除氧,中小流量标配)

1. 产品原理

机组内置GEP/NED 涡流泵,腔体内部高速旋流形成局部负压,溶解氧从液体析出,浮球自动排气,无滤芯、零耗材

2. 规格与性能

  • 流量:5~60L/min,功率 0.2~2.2kW,380V/50Hz

  • 除氧效果:原水 DO≈7~9mg/L → 出水 DO≤1.0mg/L,循环可达 0.3~0.5mg/L

  • 过流材质:SUS316,密封 EPDM(耐溶剂换 FKM 氟胶),适用水温 5~70℃

3. 优势

原位并联加装,不用改原有管路;24h 连续运行、免维护;主打超声波清洗机配套除氧(3C、光学、精密五金)。

二、DeO-Vac(外接真空泵高真空除氧,大流量 / 超低溶氧)

1. 产品原理

脱气罐体 + 外接LVFD/LVSD/HVFD 液环真空泵(UNIVAS 机组),罐体持续高真空,水体喷淋雾化,溶解气体大批量抽出分离,真空度越高除氧效果越好。

2. 性能参数

  • 流量:60~500L/min 大流量机型

  • 极限出水 DO:≤0.2mg/L(超纯水、制药药液工况)

  • 配套真空源:HVFD 高真空液环泵(极限 4kPa 绝压)、LVSD 标准液环泵(8kPa 绝压)、UNIVAS 一体式真空机组

3. 适用场景

制药配液、超纯水 EDI 前端除氧、电镀整槽循环除氧、化工原料液除氧防氧化。

三、UNIVAS 瓦斯大学(一体式真空机组,DeO-Vac 专用真空源)

1. 简介

集成LVS 液环泵 + 密闭水箱 + 汽水分离器 + 压力表一体化整机,作为除氧系统核心负压源,出厂预装,接水电即用。

2. 常用型号除氧配套

表格
型号功率极限真空适配除氧流量
UNIVAS-070.75kW16kPa≤80L/min
UNIVAS-151.5kW14kPa80~150L/min
UNIVAS-222.2kW13kPa150~250L/min
UNIVAS-373.7kW13kPa250~450L/min

四、配套真空主机(单独采购做除氧负压)

  1. LVSD 标准液环泵:极限 8kPa 绝压,0.75~5.5kW,常规纯水除氧

  2. HVFD 高真空液环泵:单级 4kPa 绝压,超低真空,高精度药液深度除氧

  3. SVC 大型液环机组:大抽气量,化工吨级水循环系统集中除氧

五、选型区分速查表

  1. 小流量清洗槽(≤60L/min)→DeO-Turbo(自带泵,省事)

  2. 中大流量纯水 / 药液(60~500L/min)→DeO-Vac+UNIVAS 机组

  3. 大型产线集中除氧→DeO-Vac+SVC 分体真空泵

六、通用应用行业

  1. 电子半导体:晶圆、PCB 超声波清洗除氧,提升空化清洗力

  2. 电镀行业:槽液除氧,减缓药水氧化、减少镀层针孔

  3. 制药 / 食品:配料用水除氧,延长原料保质期

  4. 纯水水处理:RO 产水除氧,抑制管道微生物滋生



热门资讯